干法刻蝕技術(shù)是一個(gè)非常廣泛的概念。所有不涉及化學(xué)腐蝕液體的刻蝕技術(shù)或者材料加工技術(shù)都是干法，刻蝕則代表材料的加工是從表面通過(guò)逐層剝離的方法形成事先設(shè)計(jì)的圖形或結(jié)構(gòu)。在所有的干法加工技術(shù)中，等離子刻蝕技術(shù)是應(yīng)用較廣泛的，也是微納米加工能力較強(qiáng)的技術(shù)。它是在等離子體中發(fā)生的，等離子體是在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生的。對(duì)氣體通電，使氣體被電離，隨著氣體分子的大量電離，氣體由初期的絕緣狀態(tài)變?yōu)閷?dǎo)電狀態(tài)，有電流通過(guò)，形成電場(chǎng)。同時(shí)空間的自由電子也會(huì)不斷與氣體離子碰撞復(fù)合，恢復(fù)為氣體原子。zui終電離與復(fù)合達(dá)到平衡態(tài)，在空間形成等離子體。氣體離子恢復(fù)到原子態(tài)會(huì)以光子形式釋放能量，產(chǎn)生輝光，所以產(chǎn)生等離子體的過(guò)程又稱為輝光放電過(guò)程。

如上所訴，等離子刻蝕過(guò)程是一個(gè)非常復(fù)雜的物理與化學(xué)過(guò)程，有多種可調(diào)控的參數(shù)，例如氣體流量，壓力與放電功率等。每一個(gè)參數(shù)都會(huì)在某種程度上影響后期的刻蝕效果。一次成功的刻蝕取決于如何調(diào)整上述參數(shù)以實(shí)現(xiàn)所需的抗蝕比，刻蝕速率和均勻性。